ALD 包覆改性方案

PANDORA 多功能臺式原子層沉積系統【ALD 包覆改性方案】

很多人相信，潘多拉的魔盒還埋藏著(zhù)尚未開(kāi)發(fā)的寶物——希望！

正是基于對于新技術(shù)應用的美好愿景，Forge Nano 開(kāi)發(fā)了 PANDORA 臺式原子層沉積系統， 這一工具巧妙地將粉末原子層沉積技術(shù)和平面原子層沉積薄膜技術(shù)結合。使用者可輕易地在粉末與平面樣品之間切換，而不用擔心影響研究效率。

產(chǎn)品規格【ALD 包覆改性方案】

1. 前驅體通道：2-6

2. 連續流 / 靜態(tài)流兼容

3. 反應腔：100ml 粉末腔 / 10×10cm 平面

4. 反應腔結構：旋轉式

5. 反應腔溫度：最高 200℃

6. 配件：In-situ QCM，等離子發(fā)生器，臭氧發(fā)生器，在線(xiàn)式氣體分析系統，沖壓輔助裝置

7. 支持樣品：粉末，纖維，平面樣，器件，藥物

產(chǎn)品特點(diǎn)

PANDORA 是高度集成的臺式原子層沉積系統，可擺放在實(shí)驗室的任意角落，采用旋轉式反應腔實(shí)現對粉末材料的分散，有更高的兼容性。對于平面樣品，則可快速插入平面反應臺，實(shí)現樣品的切換。PANDORA 高度集成的特點(diǎn)提高了使用效率，使用者甚至在安裝的第一天便可以開(kāi)始 ALD 實(shí)驗。

實(shí)時(shí)監測

PANDORA 也配備了在線(xiàn)分析系統，可以對前驅體與副產(chǎn)物進(jìn)行實(shí)時(shí)監測，從而進(jìn)行沉積工藝改良。

In-situ QCM

ALD 是微量的沉積方式，故常規手段無(wú)法測量薄膜的質(zhì)量，因此 PANDORA 采用石英微天平可以實(shí)時(shí)監測材料的質(zhì)量變化，幫助研究者獲得更高質(zhì)量的薄膜。

反應觀(guān)察窗

研究者可通過(guò)窗口實(shí)時(shí)觀(guān)察粉末在腔室中的運轉情況

符合 cGMP 要求

PANDORA 可以應用于藥物的表面改性及包覆，從而提升藥物的物理及化學(xué)性能。

應用

對于學(xué)術(shù)研究，液相法是進(jìn)行粉末表面包覆改性的重要方法，但對于大多數研究者而言，尋找合適的工藝以及普適性較高的方案是費時(shí)耗力的工作，且液相法會(huì )造成大量的原料浪費，同時(shí)并不能實(shí)現*均勻的包覆。包覆層會(huì )出現較多的缺陷或顆粒團聚，影響材料最終的性能。而對于敏感性較高的材料，如鋰電電極粉末，液相法可能對材料性能產(chǎn)生不可逆的影響。

ALD 是自限制性的薄膜沉積技術(shù)，可以在粉末材料表面形成均勻的包覆，即便是孔隙率高的多孔結構，ALD 也有較好的均一性。