全自動(dòng)掃描電鏡成像分析在優(yōu)化電池正極材料質(zhì)量管理中的應用

全自動(dòng)掃描電鏡成像分析在優(yōu)化電池正極材料質(zhì)量管理中的應用

電動(dòng)汽車(chē)電池組由數千個(gè)單獨的電池組成，這些電池的每個(gè)電極都包含著(zhù)數百萬(wàn)個(gè)顆粒。 在充電和放電過(guò)程中，重要的是這些顆粒要一同發(fā)揮作用。

正極材料及其前驅體的粒徑分布和微觀(guān)結構對電池的能量密度和安全性至關(guān)重要，這就意味著(zhù)，在生產(chǎn)過(guò)程中需要嚴格監控這些顆粒的質(zhì)量。掃描電子顯微鏡（SEM）用于制造過(guò)程質(zhì)量控制，能夠識別原材料及其中間產(chǎn)物的質(zhì)量波動(dòng)。掃描電鏡（SEM）能夠提供直觀(guān)全面的形態(tài)統計結果，在正極顆粒的質(zhì)量控制過(guò)程中發(fā)揮著(zhù)重要作用。

在本文中，對 NCM 正極及其前驅體使用了自動(dòng)化掃描電鏡（SEM）的檢測方法，向研究人員展示了該方法是如何幫助正極材料生產(chǎn)商優(yōu)化其質(zhì)量檢查（QC）工序的。這一自動(dòng)化的解決方案有望通過(guò)提高工廠(chǎng)生產(chǎn)力，并節省大量成本。

圖1. 含鎳正極材料的制造工藝示意圖

SEM 在正極材料 QC 工序中的應用案例

圖 1 顯示了 NCM 正極粉末的生產(chǎn)過(guò)程。NCM 正極材料是將鋰鹽與前驅體混合后燒結（通常通過(guò)水熱法和共沉淀法制備），燒結后，再將團聚的顆粒研磨粉碎成需要的粒徑。

NCM 正極前驅體顆粒的質(zhì)量控制

NCM 顆粒的最終形態(tài)和粒徑取決于其前驅體顆粒的粒徑以及燒結的過(guò)程，這就意味著(zhù)在前驅體生產(chǎn)過(guò)程中控制前驅體的質(zhì)量至關(guān)重要。質(zhì)檢人員在前驅體質(zhì)量控制過(guò)程中測定兩個(gè)主要的結構特征：尺寸分布和表面結構。通常，具有窄粒徑分布的前驅體可以在更短的時(shí)間內鋰化，從而獲得更好的結晶度。窄的粒徑分布和良好的層結構也代表著(zhù)更好的電化學(xué)性能。圖 2 顯示了通過(guò)不同合成工藝生產(chǎn)的前驅體顆粒的 SEM 圖。如圖 2a 所示，具有寬粒徑分布的前驅體顆粒直徑范圍約 4.5～13.6µm。圖 2b 顯示了窄粒徑分布且具有多孔表面結構的前驅體顆粒。（圖中測量粒徑尺寸和分布的軟件為 Phenom ParticleMetric ）

圖2. 不同的合成條件下的 NCM 前驅體  a）具有寬粒徑粒徑分布的前驅體顆粒b）具有窄粒徑分布和多孔結構的前驅體顆粒

NCM 正極材料的質(zhì)量控制

一次和二次顆粒特性的表征在 NCM 正極材料質(zhì)量控制過(guò)程中發(fā)揮著(zhù)重要作用。如圖 3 所示，NCM 正極顆粒通常由許多一次晶體顆粒組成為球狀多晶顆粒（稱(chēng)為二次顆粒）。

圖3. 具有不同一次晶體顆粒尺寸的多晶 NCM 顆粒

在進(jìn)行充電和放電時(shí)，每個(gè)一次晶體顆粒經(jīng)歷鋰離子的嵌入和脫嵌入時(shí)，正極材料會(huì )發(fā)生二次顆粒破裂。在這個(gè)過(guò)程中，每個(gè)一次晶體顆粒的體積都會(huì )發(fā)生變化，這是造成顆粒裂開(kāi)的主要原因。二次顆粒破裂加劇了電池內部反應，并縮短了電池的壽命周期。因此，一次晶體顆粒的表征對于整個(gè) NCM 材料分析至關(guān)重要。

圖4. 由 Phenom ParticleMetric 軟件測量的多晶 NCM 顆粒，顯示分布著(zhù)大量的二次顆粒

圖 4 顯示了具有寬的二次粒徑分布的 NCM 顆粒，這導致了較低的能量密度?？偟膩?lái)說(shuō)，確保前驅體的粒徑大小在預期值內，能夠提高最終正極粉末符合規范的可能性。同時(shí)，不符合質(zhì)量控制標準的前驅體顆?？梢曰厥赵偌庸?，從而降低制造成本。SEM 可以提供一次和二次顆粒粒徑的信息，能夠幫助制造商在燒結過(guò)程中優(yōu)化關(guān)鍵參數。

燒結后，將團聚的顆粒粉碎并研磨成單個(gè)顆粒。圖 5a 顯示了顆粒分散度不足的案例，而圖 5b 則顯示了過(guò)度分離導致顆粒破碎的案例。圖 5c 則展示了顆粒高度團聚的案例，此情況是制造單晶正極材料時(shí)燒結溫度過(guò)高的結果。這種團聚使顆粒比多晶材料更難分散。缺乏均勻性、分散不足或過(guò)度破碎都會(huì )對顆粒的電化學(xué)性能產(chǎn)生負面影響。掃描電鏡（SEM）可以清晰地顯示研磨后的顆粒，有助于生產(chǎn)尺寸均勻的顆粒并優(yōu)化該生產(chǎn)過(guò)程。

圖5. a）團聚的多晶顆粒  b）過(guò)度分離的顆粒  c）高度團聚的單晶顆粒

掃描電鏡（SEM）應用于 QC 工序中

傳統的掃描電鏡（SEM）用于 QC，需要檢查一個(gè)樣品中的多個(gè)位置，以確保結果具有普遍性。通常，需要不同放大倍數的掃描電鏡（SEM）圖像，高倍掃描電鏡（SEM）圖像顯示詳細的微觀(guān)結構（例如，前驅體中的層狀結構、一次晶體顆粒），而低倍掃描電鏡（SEM）圖像顯示了整體顆粒特征（例如，尺寸、分布、圓度等）。獲取這些多幅圖像需要進(jìn)行以下操作：

1.  加載樣本

2.  導航到所需位置

3.  調整焦點(diǎn)、亮度、對比度等。

4.  獲取不同放大倍數的圖像

5.  根據需要重復步驟 2 - 4

每日生產(chǎn)數噸材料的制造廠(chǎng)可能每天需要測試數百個(gè)樣品。這意味著(zhù)檢測人員需要連續數小時(shí)重復單調的操作，這樣很容易出現人為錯誤。

圖6. 傳統的掃描電鏡（SEM）成像工作流程與 Phenom XL 臺式 SEM 的自動(dòng)成像工作流程對比

自動(dòng)成像的工作流

飛納電鏡 Phenom XL G2 提供了自動(dòng)成像工作流，AutoScan 軟件可以在加載樣品后自動(dòng)獲取數據。該設備一次最多可容納 36 個(gè)樣品，每個(gè)樣品能夠在不同的位置以不同的放大倍數成像。整個(gè)過(guò)程可以輕松實(shí)現定制化工作流程。

例如，正極原材料的標準質(zhì)量控制可能需要對每個(gè)樣品上的 5 個(gè)不同位置進(jìn)行 1k、5k 和 10k 的放大倍數分析，并且要求對樣品的微觀(guān)結構進(jìn)行清晰成像。手動(dòng)操作 36 個(gè)樣品，這將需要操作人員重復數百次圖 6 所示的步驟，大約花費 3-4 小時(shí)才能完成。而 Phenom  XL G2 自動(dòng)化的工作流程只需要用戶(hù)花費 10 分鐘進(jìn)行輸入設置參數即可，這樣可以為其他工作騰出寶貴的時(shí)間?？梢栽跓o(wú)人值守的情況下自動(dòng)穩定運行，提高了檢測效率，從而達到減小誤差，提高生產(chǎn)率的效果。

基于 AutoScan 軟件的自動(dòng)化成像

AutoScan 軟件基于Phenom 編程接口（PPI）。使用 AutoScan 軟件，飛納電鏡可以根據用戶(hù)的指令，對每個(gè)樣品的不同位置以及不同位置下的多個(gè)放大倍數進(jìn)行自動(dòng)拍照成像。

圖7. AutoScan 軟件用戶(hù)界面

該自動(dòng)化程序可以每周七天、每天 24 小時(shí)運行。自動(dòng)化的程序也提高了 Phenom 臺式掃描電鏡的可操作性，可以獲取海量數據，為他們的分析提供可靠的數據基礎。

進(jìn)一步提升圖像分析能力的軟件   ParticleMetric 飛納顆粒統計分析軟件

為了進(jìn)一步進(jìn)行自動(dòng)化粒徑分析，可以將圖像直接導入 Phenom ParticleMetric 軟件，該軟件可以自動(dòng)分析圖像并計算統計顆粒形態(tài)信息。分析完成后立即生成報告，包括各種顆粒性質(zhì)和統計數據。

圖 8 顯示了單晶 NCM 樣品的 ParticleMetric 軟件分析界面。自動(dòng)粒徑分布表明平均粒徑為 2µm。

圖8. 使用 Phenom ParticleMetric 軟件對單晶 NCM 樣品分析的用戶(hù)界面。

A）使用的所有圖像的列表項目

B）已識別的顆粒進(jìn)行著(zhù)色

C）已識別顆粒的詳細信息列表

D）所有顆粒的統計信息

E）可視化數據均可以進(jìn)行自定義

總結

在本文中，介紹了掃描電鏡（SEM）在正極材料質(zhì)量控制中的作用。Phenom XL G2 臺式電鏡提供的自動(dòng)化成像工作流，能夠進(jìn)行自動(dòng)圖像采集和分析，優(yōu)化質(zhì)量控制過(guò)程，從而降低生產(chǎn)成本并提高生產(chǎn)效率。

·  飛納電鏡 Phenom XL G2 與 AutoScan 軟件相結合，可以自動(dòng)獲取海量 SEM 圖像

·  在 ParticleMetric 軟件中對 SEM 圖像進(jìn)行分析，實(shí)現關(guān)鍵顆粒信息的可視化

·  自動(dòng)化 SEM 成像工作流程同樣可以應用于電池生產(chǎn)中使用的其他原材料的質(zhì)量控制

AutoScan 軟件和 ParticleMetric 軟件，從原材料的顆粒形態(tài)出發(fā)，為電池原材料生產(chǎn)商解決了海量拍照和顆粒統計的煩惱。但是，原材料或者生產(chǎn)過(guò)程中引入的雜質(zhì)，同樣嚴重影響電池的電化學(xué)性能，正、負極雜質(zhì)顆粒都有可能刺穿隔膜，造成安全隱患。因此，對于原材料或者生產(chǎn)過(guò)程中的異物監控也是品控中的重要課題，在下期文章中，我們將重點(diǎn)介紹電池異物檢測的解決方案 —— Phenom ParticleX 鋰電清潔度檢測系統。

參考文獻   Reference

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