結合飛納臺式掃描電鏡干粉制劑顆粒檢測系統，以快速、簡(jiǎn)便的方式實(shí)現顆粒的可視化分析，代表著(zhù)微觀(guān)顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步?？焖?、易用和超清晰成像質(zhì)量的飛納臺式掃描電鏡，加上顆粒統計分析測量系統的顆粒圖像分析功能，為用戶(hù)檢驗、分析各種各樣的顆粒、粉末樣品創(chuàng )造了一個(gè)強大工具。

高性?xún)r(jià)比掃描電鏡 Phenom Pure 裝配的基本組件可以滿(mǎn)足高分辨率成像的要求，這些基本組件不僅可以保證電鏡高質(zhì)量的成像，而且能夠實(shí)現快速裝載樣品，短時(shí)間內成像。精確的自動(dòng)聚焦和電子束自動(dòng)對中使飛納電鏡系列成為市場(chǎng)上受用戶(hù)歡迎、操作簡(jiǎn)單的智能型掃描電鏡。對于有高分辨率成像需求的用戶(hù)來(lái)說(shuō)， Phenom Pure 可以提供經(jīng)濟、高效的解決方案。

加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實(shí)驗室需要一臺具備快速準確分析大量材料微觀(guān)結構的掃描電鏡。第六代 Phenom ProX 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機引入了全新一代操作系統，通過(guò)改進(jìn)光路設計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升級，易于操作，元素分析更快速。

Phenom Particle Metric顆粒測試以較快、較簡(jiǎn)便的方式實(shí)現顆粒的可視化分析，是微觀(guān)顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步?？焖?、易用和超清晰圖像質(zhì)量的Phenom飛納掃描電鏡，加上Particle Metric顆粒系統的顆粒圖像分析功能，為用戶(hù)提供了分析顆粒和粉末試樣的強大工具。

荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源臺式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源，使用戶(hù)可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優(yōu)異。飛納臺式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 低電壓成像優(yōu)勢明顯，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，更好地觀(guān)測絕緣和電子束敏感的樣品，可以還原樣品真實(shí)形貌。